研發出一套水冷式連續流體PCR晶片，恆溫加熱模組設置在晶片底部，使恆溫區的左右兩邊分別可達到特定的高、中溫。

在晶片底部中間加設冷卻水道，以達到所需要的第三個恆溫區（最低溫），可依照所需之最低溫將入口流速進行調整。

利用商用計算流體數值軟體模擬的方式，探討晶片中不同幾何參數與材質對恆溫區的溫度分佈影響，並分析加熱晶片中金屬均溫薄片與水冷流道對溫度均勻性的效應。

以PDMS翻模方法製作微流道，進行DNA的擴增，完成水冷式連續流體PCR晶片。這種利用水冷流道來冷卻PCR晶片的想法，利用水冷流道的散熱效應在晶片上產生第三溫區（最低溫），可因應不同DNA片段在PCR中煉合（Annealing）階段所需的溫度需求，此溫度可能在40 °C至60 °C之間。